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脈衝和直流電(diàn)源係統

脈衝和直流電源係統

利用 Advanced Energy 全麵的(de)直流和脈(mò)衝直流套件推進(jìn)等離子(zǐ)工藝創(chuàng)新,在提高沉積率、改善薄膜平整(zhěng)度和堆積密度的同時最大限度減少電弧。

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脈衝和直流電源係(xì)統

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經工藝驗證的脈衝直(zhí)流電用於薄介電膜的單磁控管反應濺射

Pinnacle III+脈衝和直流電(diàn)源係統

Pinnacle Plus+發生器以(yǐ)脈衝配置提供直(zhí)流電,從而實現(xiàn)極其均勻(yún)、高質量的介電膜的反應濺射。 反向脈衝期間的電荷清除可防止電弧(hú)發展 通過頻率和占空比控製可調節過程 緊湊(còu)型(xíng)風(fēng)冷設計,可擴展至主/衛星配置

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